PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學(xué)氣象沉積（CVD）反應(yīng)溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應(yīng)裝置將反應(yīng)氣體電離，形成等離子體，
利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，所以這個(gè)系統(tǒng)稱為增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）。
主要特點(diǎn)：
1. 管內(nèi)真空度自動(dòng)平衡——管內(nèi)真空度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，自動(dòng)平衡。PECVD工藝要求石英管內(nèi)真空度通常在0.1～100Pa之間，該型號(hào)PECVD的AIO控制系統(tǒng)會(huì)通過(guò)真空泵的自動(dòng)啟停來(lái)維持用戶設(shè)定的管內(nèi)真空度，使成膜效果達(dá)最佳的均勻性。
2. AIO控制系統(tǒng)——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個(gè)7英寸觸摸屏進(jìn)行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控，協(xié)調(diào)控制——成儀AIO控制系統(tǒng)；
3. 射頻功率的定時(shí)控制——預(yù)先設(shè)定好功率的大小和打開(kāi)與關(guān)閉的時(shí)間，自動(dòng)運(yùn)行；
4. 爐膛移動(dòng)速度可調(diào)——根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，用戶可設(shè)定爐膛左右移動(dòng)的速度可距離，在沉積結(jié)束后爐膛可自動(dòng)移開(kāi)沉積區(qū)，使樣品快速冷卻；
5.增加了氣體預(yù)熱溫區(qū)，在氣體電離前把反應(yīng)氣體加熱到實(shí)驗(yàn)溫度，使得沉積效果更佳穩(wěn)定，縮短沉積時(shí)間。
| 設(shè)備名稱 | 帶氣體預(yù)熱雙溫區(qū)RECVD系統(tǒng) |
| 型 號(hào) | PE1260B-Y |
| 爐膛模式 | 開(kāi)啟式爐膛 |
| 顯示模式 | 7英寸觸摸屏 |
| 控制系統(tǒng) | 成儀AIO智能控制系統(tǒng) |
| 極限溫度 | 1200℃ |
| 加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲 |
| 測(cè)溫元件 | K型熱電偶 |
| 保溫材料 | 高純度氧化鋁纖維 |
| 工作溫度 | ≤1150℃ |
| 升溫速率 | 建議10℃/Min |
| 加熱溫區(qū) | 雙溫區(qū) |
| 總溫區(qū)長(zhǎng)度 | 200+200 |
| 進(jìn)氣預(yù)熱溫度 | 800℃ |
| 進(jìn)氣預(yù)熱區(qū)長(zhǎng)度 | 200mm |
| 爐管規(guī)格 | 60*1400mm |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 密封方式 | 快速法蘭密封 |
| 溫度曲線 | 30段"時(shí)間—溫度曲線"任意可設(shè) |
| 預(yù)存曲線 | 可預(yù)存15條溫度曲線 |
| 曲線顯示 | 燒結(jié)曲線實(shí)時(shí)描繪顯示 |
| 射頻電源功率 | 5～300W自動(dòng)匹配 |
| 射頻頻率 | 13.56MHz |
| 真空系統(tǒng)抽速 | 2L/s |
| 真空泵類型 | 雙級(jí)聯(lián)高真空機(jī)械泵 |
| 真空泵極限真空度 | 10-2Pa |
| 系統(tǒng)真空度 | ≤20Pa |
| 管內(nèi)壓力要求 | 根據(jù)用戶設(shè)定自動(dòng)啟停真空泵，達(dá)到壓力自動(dòng)平衡 |
| 壓力保護(hù) | 管內(nèi)超壓后自動(dòng)放氣泄壓 |
| 供氣系統(tǒng) | 3～5路質(zhì)量流量計(jì) |
| 精準(zhǔn)度 | ±1 |
| 氣體種類 | 乙炔、氫氣、氮?dú)狻⒍趸?/span> |
| 氣體切換 | 根據(jù)用戶設(shè)定，氣體可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)切換 |