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河南弗萊爾儀器設(shè)備有限公司

小型PECVD系統(tǒng)

  • 小型PECVD系統(tǒng)
  • 小型PECVD系統(tǒng)

    型號:
    PE1260S
    用途:
    小樣品的等離子化學氣相沉積,石墨烯沉積,半導體鍍膜等
    規(guī)格:
    1200℃
    特點:
    觸摸屏集中一鍵控制,實驗證明此結(jié)構(gòu)沉積速度快,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂

該型號PECVD為整體精簡款,綜合了國內(nèi)大多數(shù)廠家的管式PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點,觸摸屏集中一鍵控制,實驗證明此結(jié)構(gòu)沉積速度快,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發(fā)的實驗電爐AIO全自動智能控制系統(tǒng),使得操作更加簡便,功能更加強大。

主要特點:

1. 管內(nèi)真空度自動平衡——管內(nèi)真空度實時監(jiān)測,自動平衡。PECVD工藝要求石英管內(nèi)真空度通常在0.1~100Pa之間,該型號PECVD的AIO控制系統(tǒng)會通過真空泵的自動啟停來維持用戶設(shè)定的管內(nèi)真空度,使成膜效果達最佳的均勻性。

2. AIO控制系統(tǒng)——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控,協(xié)調(diào)控制——成儀AIO控制系統(tǒng);

3. 射頻功率的定時控制——預先設(shè)定好功率的大小和打開與關(guān)閉的時間,自動運行;

4. 爐膛移動速度可調(diào)——根據(jù)實驗要求,用戶可設(shè)定爐膛左右移動的速度可距離,在沉積結(jié)束后爐膛可自動移開沉積區(qū),使樣品快速冷卻;

5. 整機結(jié)構(gòu)融為一體——整機長度只有1.5米,移動方便,避免分散組裝的困擾。



加熱爐部分

1爐膛模式開啟式可移動爐膛
2顯示模式7英寸觸摸屏
3極限溫度1200℃
4工作溫度≤1150℃
5升溫速率建議10℃/Min   Max:30℃/Min
6爐體移動有,速度可調(diào)
7單溫區(qū)長度主溫區(qū)長度:200mm(可選配氣體預熱部分)
8爐管規(guī)格60*1150 mm
9控溫精度±1℃
10密封方式快速法蘭密封
11溫度曲線30段"時間—溫度曲線"任意可設(shè)
12預存曲線可預存15條溫度曲線
13超溫報警
14過流保護
15斷偶提示
16測溫元件K型熱電偶
17爐膛材料氧化鋁纖維
18外形尺寸1500*600*1000MM

射頻電源功率
1信號頻率13.56 MHz±0.005%
2功率輸出范圍5W-300W
3功率穩(wěn)定度±0.1%
4整機效率>=70%
5功率因素>=90%
6冷卻方式強制風冷

真空部分
1功率500W
2抽氣速率2Ls
3極限真空4X10-2Pa

氣路系統(tǒng)
11~3路質(zhì)量流量計可選(七星華創(chuàng))
2準確度:±1.5%
3重復精度:±0.2%
4工作壓差范圍:0.1~0.5 MPa

整機系統(tǒng)特色
1正壓測量-100Kpa---100Kpa
2真空測量10-2Pa ~100Kpa(支持Ar測量)
3正壓保護支持
4壓力恒定支持
5智能氣路支持
6氣路定時支持
7射頻工作時間設(shè)定支持
8移動速度調(diào)節(jié)支持